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無機納米顆粒改性纖維漿液研磨分散機,GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
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無機納米顆粒改性纖維漿液研磨分散機,芳綸涂覆的鋰電池復(fù)合隔膜研磨分散機,二氧化硅分散液分散機
SGN研磨分散機能夠?qū)崿F(xiàn)自動控制,且操作簡單方便,機器運行很穩(wěn)定。機器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。
上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出結(jié)果產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
鋰電池作為新型的二次電池,具有高能量密度、循環(huán)壽命長等優(yōu)點,其應(yīng)用范圍不斷擴展,被大量應(yīng)用于便攜式電子裝置、電動工具、儲能和動力汽車中,尤其隨著新能源行業(yè)的快速發(fā)展,鋰電池被越來越多的應(yīng)用到動力汽車中。然而,頻繁發(fā)生的鋰電池安全事故日益引起了人們的廣泛關(guān)注。其中,隔膜作為鋰電池的重要組成部分,可以有效防止正、負極接觸發(fā)生短路,對鋰電池的安全性具有非常重要的影響,因此,鋰電池性能的提升及安全性要求對隔膜的性能有著更高的要求。
聚烯烴隔膜是目前使用廣泛的鋰電池隔膜,但是,市場上現(xiàn)有的聚烯烴隔膜存在熱收縮率大和親電解液不足的問題。為了改善聚烯烴隔膜的耐熱性和電解液浸潤性,目前主要的解決方案是在聚烯烴隔膜的單面或雙面涂覆涂層,這種涂層在一定程度上可以改善隔膜的熱穩(wěn)定性,同時與電解液有良好的浸潤性。隨著鋰電池的發(fā)展,對其能量密度要求越來越高,導(dǎo)致電池內(nèi)部環(huán)境越來越苛刻,普通的無機涂層不能達到高溫(大于150攝氏度)條件下的熱穩(wěn)定性能,因此尋求下一代熱穩(wěn)定性能優(yōu)異的隔膜就成了當務(wù)之急。
芳綸以其高強度、高模量、耐化學腐蝕的特性,被廣泛應(yīng)用于航空航天、電器和特種品開發(fā)等領(lǐng)域,其分解的溫度可達590℃,能大大提高電池的耐熱性和安全性能。然而,芳綸樹脂難溶難熔,只能溶解在濃硫酸中,工藝復(fù)雜,設(shè)備要求耐強酸腐蝕,加工比較困難,從而限制了芳綸材料的應(yīng)用領(lǐng)域。
制備芳綸涂覆的鋰電池隔膜時,多直接使用DMAC、DMF、NMP、DMSO等有機溶劑配合助溶劑溶解芳綸纖維制備芳綸溶解液,然后添加成孔劑得芳綸漿料,使涂覆膜浸凝固液固化,Z后經(jīng)水洗、烘干制得芳綸涂覆鋰電池隔膜。該方法仍存在以下問題:
1、芳綸纖維需加熱溶解,該過程會導(dǎo)致芳綸漿料引入雜質(zhì)較多,部分芳綸纖維分解,造成耐熱性及機械性能變差;
2、現(xiàn)有的芳綸涂層對鋰電池隔膜的耐高溫性能改善有限;
3、現(xiàn)有的芳綸涂層易形成致密孔而影響透氣性。
從設(shè)備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個關(guān)鍵因素,研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的
GMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到允許量的
無機納米顆粒改性纖維漿液研磨分散機,芳綸涂覆的鋰電池復(fù)合隔膜研磨分散機,二氧化硅分散液分散機
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